Nanotechnologie-Halbleiterprozess-Ultraschall-Fotoresist-Sprühtechnologie

 

 

 

Die Nanotechnologie-Halbleiterprozess-Ultraschall-Fotolack-Sprühtechnologie erzeugt Fotolack-Tröpfchen durch hochfrequente mechanische Schwingungen des Fotolack-Mediums und transportiert sie dann durch ein Trägergas auf das Substrat.
Die wichtigste Voraussetzung für die Sicherstellung reproduzierbarer, zuverlässiger und anwendbarer Ergebnisse in der Fotolithografie-Technologie ist die gleichmäßige Beschichtung der Substratoberfläche mit Fotolack. Fotolack wird normalerweise in Lösungsmitteln oder wässrigen Lösungen dispergiert und ist ein Material mit übermäßiger Viskosität. Als Verfahren zur Beschichtung von Fotolack wird je nach Prozessanforderung in der Regel das Ultraschallspritzen gewählt.

 

 

 

 

 

1. Ungleichmäßiges Sprühen

Grund:

Die Düse ist verstopft oder abgenutzt.

Die Ultraschallfrequenz ist instabil.

Die Viskosität des Sprühtuches ist nun nicht mehr geeignet.

Lösungsmittel:

Reinigen oder ersetzen Sie die Düse.

Kalibrieren Sie den Ultraschallgenerator.

Passen Sie die Viskosität des Materials an.

2. Die Spritzpartikel sind zu groß oder zu klein

Grund:

Falsche Platzierung der Ultraschallparameter.

Das Düsendiagramm ist für das Schneidkantenmaterial nicht mehr geeignet.

Lösungsmittel:

Passen Sie die Ultraschallfrequenz und -leistung an.

Ersetzen Sie die tolle Düse.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

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