Ultraschall-Zerstäubungs-Sprühsystem für die Photoresist-Beschichtung

 

 

 

Ultraschall-Zerstäubungssprühsystem für die Fotolack-Resistbeschichtung Die Fotolack-Resistbeschichtung ist eine alternative Methode zur Schleuderbeschichtung. Die Fotolacklösung wird durch hochfrequente Ultraschallvibrationen in eine mikrometergroße Flüssigkeit zerstäubt, und dann werden die Fotolacktröpfchen auf der Substratoberfläche abgeschieden, um einen kontinuierlichen Fotolackfilm zu bilden. Daher kann das Sprühen die gesamte Oberfläche jedes Substrats bedecken und unabhängig von der Topologie eine konforme Beschichtung liefern.
Um Fotolack aufsprühen zu können, muss der Fotolack eine ausreichend niedrige Viskosität aufweisen. Normalerweise kann es bei einer Viskosität von einigen cSt erforderlich sein, den Fotolack mit einem Lösungsmittel zu verdünnen. Das Verdünnen von Fotolack kann den Alterungsprozess des Fotolacks beschleunigen und zur Bildung von Partikeln im Medium führen. Eine weitere Einschränkung des Sprühens besteht darin, dass es aufgrund der zufälligen Verteilung der auf die Oberfläche fallenden Tröpfchen schwierig ist, dünne Filme mit einer Größe von weniger als 1 µm zu bilden. Um einen kontinuierlichen dünnen Film zu bilden, muss die minimale kritische Photoresist-Tröpfchendichte erreicht werden, was die minimale Filmdicke und Verarbeitungszeit erhöht.

 

 

 

 

 

1. Halbleiterherstellung: Während des Chipherstellungsprozesses kann das Ultraschall-Fotolacksprühen die Genauigkeit des Fotolithographieprozesses verbessern.
2. Mikro-Nanoverarbeitung: Eine präzise Fotolackbeschichtung ist bei der Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen von entscheidender Bedeutung.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

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